磁控溅射的原理论文
难得一见的磁控溅射原理论文,系统梳理了其物理机制与工艺基础,适合从事薄膜制备与材料科学的研究者参考。...
难得一见的磁控溅射原理论文,系统梳理了其物理机制与工艺基础,适合从事薄膜制备与材料科学的研究者参考。...
本文对磁控溅射的工作原理进行了详细的分析。...
随着生产生活和科学技术的不断发展,用户对镀膜产品质量的要求越来越高,需求量也越来越大。这就要求镀膜设备具有较高的精度、良好的稳定性,具有较高的镀膜效率和镀膜质量。磁控溅射作为镀膜技术的一个重要分支,也相应的得到了较快的发展,它分为直流磁控溅射,非平衡磁控溅射,射频磁控溅射和脉冲磁控溅射等磁控溅射方式...
采用磁控溅射合成不同Ta含量的系列Ti(Ta)O2薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)对薄膜的表面形貌进行表征。并对薄膜表面进行人脐静脉内皮细胞(HUVEC)种植试验以评价...
摘 要:用RF磁控溅射的方法在最佳沉积条件下在Si(100)基底上沉积了纳米氮化硼薄膜,然后对薄膜在真空度低于5×10-4Pa、温度分别为800℃和1000℃条件下进行了表面热处理,分别用红外光...