磁控溅射
共 10 篇文章
磁控溅射 相关的电子技术资料，包括技术文档、应用笔记、电路设计、代码示例等，共 10 篇文章，持续更新中。
磁控溅射的原理论文
难得一见的磁控溅射原理论文，系统梳理了其物理机制与工艺基础，适合从事薄膜制备与材料科学的研究者参考。
关于镍薄膜热电阻研制的几个问题
就镍薄膜热电阻研制过程中的选材、工艺、稳定性等问题进行了探讨, 实验结果表明: 可以选用国产0 号镍, 采用S2枪磁控溅射技术制备镍薄膜热电阻; 合适的热处理工艺是保证电阻温度系数A值及其一致性的关键
氢、氧等离子体处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响
<P>用RF磁控溅射的方法在Si（100）基底上沉积了纳米氮化硼薄膜，然后分别用氢、氧等离子体对薄膜表面进行了处理，用红外光谱、原子力显微镜、光电子能谱以及场发射试验对薄膜进行了研究，结果表明氢等离子
Ti（Ta）O2薄膜的表面形貌对血管内皮细胞生长量影响的研究
<P>采用磁控溅射合成不同Ta含量的系列Ti(Ta)O2薄膜。利用扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）对薄膜的表面形貌进行表征。并对薄膜表面进行人脐静脉内皮细胞（HUVEC）种植试验以评价
表面热处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响
<P>摘 要：用RF磁控溅射的方法在最佳沉积条件下在Si（100）基底上沉积了纳米氮化硼薄膜，然后对薄膜在真空度低于5×10-4Pa、温度分别为800℃和1000℃条件下进行了表面热处理，分别用红外光
磁控溅射原理的深入探讨.rar
本文对磁控溅射的工作原理进行了详细的分析。
40kW中频脉冲溅射电源设计.rar
随着生产生活和科学技术的不断发展，用户对镀膜产品质量的要求越来越高，需求量也越来越大。这就要求镀膜设备具有较高的精度、良好的稳定性，具有较高的镀膜效率和镀膜质量。磁控溅射作为镀膜技术的一个重要分支，也相应的得到了较快的发展，它分为直流磁控溅射，非平衡磁控溅射，射频磁控溅射和脉冲磁控溅射等磁控溅射方式。脉冲磁控溅射因其溅射效率高，溅射工艺也高于其它磁控溅射方式而成为目前磁控溅射领域的发展热门。在脉冲
双路可控电源驱动电路设计研究.rar
金属表面镀层指标的要求越来越高，为了进一步提高电镀工艺水平，在总结现有的电镀设备、电镀工艺现状的基础上，并对照目前国内外电镀电源的发展现状，理出一种新的设计思路，从而设计了电镀控制电源—双路可控电源驱动电路。 磁控溅射镀膜是工业镀膜生产中最主要的技术之一，尤其适合于大面积镀膜生产。 本文首先简要介绍了国内外几种电镀电源，并阐述了国内外电镀电源的发展状况；其次对电镀用电源的基本要求、分类、工作原理及
一种薄膜PCB平面变压器的研究
<p>摘要: 采用现代化印刷版技术，首先设计制作出一种基于柔性PCB板、线圈宽度为0.2mm、线间距为 0.3 mm、匝数比为 6:18 的空心变压器，然后采用直流磁控溅射在其上下表面镀上软磁薄膜，而最终制成了一种薄膜 PCB 平面变压器。研究了薄膜材料、膜厚等因素对该种变压器性能的影响。结果表明，制得的薄膜 PCB 平面变压器可以有效工作于4~14 MHz的频率范围。采用上述方法制备变压器，可以
电动汽车逆变器大功率igbt模块新型封装技术研究
<p>电动汽车、混合动力汽车、燃料电池汽车为代表的新能源汽车是实现节能减排目标的重要行业之一。IGBT模块作为新能源汽车的核心，其发展受到广泛关注.IGBT模块发展的关键在于改善封装方式。</p><p>本文指出了日前的封装材料在电动汽车逆变器大功率IGBT模块的封装过程中存在的缺陷，引入了新型连接材料纳米银焊膏。</p><p>为了验证纳米银焊膏的连接性能，以确定其能否应用在所需的1GBT模块的制作