资源详细信息
表面热处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响 - 资源详细说明
摘 要：用RF磁控溅射的方法在最佳沉积条件下在Si（100）基底上沉积了纳米氮化硼薄膜，然后对薄膜在真空度低于5×10-4Pa、温度分别为800℃和1000℃条件下进行了表面热处理，分别用红外光
立即下载 表面热处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响
提示：下载后请用压缩软件解压，推荐使用 WinRAR 或 7-Zip
下载说明与使用指南
下载说明
- 本资源需消耗 2积分
- 24小时内重复下载不扣分
- 支持断点续传功能
- 资源永久有效可用
使用说明
- 下载后使用解压软件解压
- 推荐使用 WinRAR 或 7-Zip
- 如有密码请查看资源说明
- 解压后即可正常使用
积分获取方式
- 上传优质资源获得积分
- 每日签到免费领取积分
- 邀请好友注册获得奖励
- 查看详情 →