SUPREM-III进行集成电路氧化—扩散工艺模拟
随着集成电路工艺的不断发展,工艺模拟软件功能也在不断的改善,本文以氧化扩散工艺为例,并在计算机上采用SUPREM-III 完成氧化扩散初始条件的编辑以及工艺模拟,并对模拟结果进行分析比较。从而对氧化、...
随着集成电路工艺的不断发展,工艺模拟软件功能也在不断的改善,本文以氧化扩散工艺为例,并在计算机上采用SUPREM-III 完成氧化扩散初始条件的编辑以及工艺模拟,并对模拟结果进行分析比较。从而对氧化、...
随着集成电路工艺的不断发展,工艺模拟软件功能也在不断的改善,但不足之处也不断暴露出来,工艺模拟过程中没有考虑仪器本身影响。所以在工艺模拟中有必要建立一个模型,本文以离子注入工艺为例,研究沟道效...