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SUPREM-III进行集成电路离子注入的工艺模拟 - 资源详细说明
随着集成电路工艺的不断发展，工艺模拟软件功能也在不断的改善，但不足之处也不
断暴露出来，工艺模拟过程中没有考虑仪器本身影响。所以在工艺模拟中有必要建立一个模型，本文以离子注入工艺为例,研究沟道效
断暴露出来，工艺模拟过程中没有考虑仪器本身影响。所以在工艺模拟中有必要建立一个模型，本文以离子注入工艺为例,研究沟道效
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