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计算光刻是半导体制造中的关键技术，通过精确模拟光刻过程来优化掩模设计，提高芯片制造精度与效率。广泛应用于先进制程节点的开发，对于追求极致性能与集成度的IC设计至关重要。本页面汇集了11308个精选资源，涵盖从基础理论到最新算法实践，助力工程师深入理解并掌握这一前沿技术，加速创新步伐。无论是初学者还是资深专家，都能在这里找到宝贵的学习资料和技术灵感。

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