📚 掩模技术资料

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掩模技术是半导体制造与微电子加工中的关键环节,通过精确控制光刻过程实现电路图案的高精度转移。广泛应用于集成电路、MEMS器件及先进封装等领域,对于提升产品性能和可靠性至关重要。本页面汇集了2262份精选掩模相关资源,涵盖设计原理、工艺流程及最新研究成果,助力工程师深入理解并掌握这一核心技术,加速创新步伐。立即访问,开启您的专业成长之旅!

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·摘 要:为了有效去除图像中的干扰噪音,改善模糊不清晰的有用边缘细节信息,提高图像的层次感和清晰度,提出将粗糙集和小波反锐化掩模相结合的方法来实现图像增强.运用粗糙集中的近似及等价属性关系将知识化后的图像划分成不同的区域,再根据估计好的阂值进行数据约简,实现有效去除噪音.运用小波反锐化掩模法对图像的...

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为了减小传统的反锐化掩模算法对噪声的敏感性,提出了一种新的反锐化掩模图像 增强算法,该算法在图像的平坦区域进行去噪处理,并依据人眼视觉特性对图像的不同细节 区域做不同程度的增强。通过几种算法的实验结果比较,表明本算法不仅增强效果较好,且 抑制了噪声的增强。...

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