MT-003 了解SINAD、ENOB、SNR、THD、THD + N、SFDR,不在噪底中迷失
用于定量表示ADC动态性能的常用指标有六个,分别是:SINAD(信纳比)、ENOB(有效位 数)、SNR(信噪比)、THD(总谐波失真)、THD + N(总谐波失真加噪声)和SFDR(无杂散动态 范围...
用于定量表示ADC动态性能的常用指标有六个,分别是:SINAD(信纳比)、ENOB(有效位 数)、SNR(信噪比)、THD(总谐波失真)、THD + N(总谐波失真加噪声)和SFDR(无杂散动态 范围...
基于N沟道MOS管H桥驱动电路设计与制作...
为了克服传统功率MOS 导通电阻与击穿电压之间的矛盾,提出了一种新的理想器件结构,称为超级结器件或Cool2MOS ,CoolMOS 由一系列的P 型和N 型半导体薄层交替排列组成。在截止态时,由...
对于常规VDMOS器件结构, Rdson与BV存在矛盾关系,要想提高BV,都是从减小EPI参杂浓度着手,但是外延层又是正向电流流通的通道,EPI参杂浓度减小了,电阻必然变大,Rdson增大。所以对于普...
计数器是一种重要的时序逻辑电路,广泛应用于各类数字系统中。介绍以集成计数器74LS161和74LS160为基础,用归零法设计N进制计数器的原理与步骤。用此方法设计了3种36进制计数器,并用Multis...
通俗易懂的介绍MOS管和使用方法...
N+缓冲层设计对PT-IGBT器件特性的影响至关重要。文中利用Silvaco软件对PT-IGBT的I-V特性进行仿真。提取相同电流密度下,不同N+缓冲层掺杂浓度PT-IGBT的通态压降,得...
一.晶片的作用: 晶片為LED的主要原材料,LED主要依靠晶片來發光. 二.晶片的組成. 主要有砷(AS) 鋁(AL) 鎵(Ga) 銦(IN) 磷(P) 氮(N)鍶(Si)這几种元素中的若干种組成....
采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF2PECVD)技术制备非晶硅(a2Si)NIP 太阳能电池,其中电池的窗口层采用P 型晶化硅薄膜,电池结构为Al/ glass/ SnO2 / N(a2Si :H...
随着我国通信、电力事业的发展,通信、电力网络的规模越来越大,系统越来越复杂。与之相应的对交流供电的可靠性、灵活性、智能化、免维护越来越重要。在中国通信、电力网络中,传统的交流供电方案是以UPS或单机式...