III

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随着集成电路工艺的不断发展，工艺模拟软件功能也在不断的改善，本文以氧化扩散工艺为例,并在计算机上采用SUPREM-III 完成氧化扩散初始条件的编辑以及工艺模拟，并对模拟结果进行分析比较。从而对氧化、...

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随着集成电路工艺的不断发展，工艺模拟软件功能也在不断的改善，但不足之处也不断暴露出来，工艺模拟过程中没有考虑仪器本身影响。所以在工艺模拟中有必要建立一个模型，本文以离子注入工艺为例,研究沟道效...

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III技术资料简介

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相关技术领域： Micrium_uC-Eval-STM uCOS-III-TCPIP-V SUPREM-III 进行 氧化 离子注入 OS-III 程序 串口控制 8路 EduKit-III uClinux