掩膜

掩膜技术是半导体制造与光刻工艺中的关键环节,通过精确控制曝光区域实现微纳结构的高精度复制。广泛应用于集成电路、MEMS器件及先进封装等领域,对于提升产品性能和良率至关重要。本页面汇集了143个精选资源,涵盖掩膜设计、材料选择及工艺优化等多方面内容,助力电子工程师深入理解并掌握这一核心技术,加速创新步...

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355

掩膜 全部资料 355 份

摘 要 针对现有单相机单光源视线追踪系统存在的几个问题:精度不高、头动受限以及标定复杂,提出了一种新的基于瞳孔?角膜反射(PCCR)技术的视线追踪方法.通过提出的瞳孔边缘滤波算法(RDPEF)和三通道伪彩色图(TCPCM)解决了近红外条件下...

2013-10-21 65 掩膜

由于金刚石与Si有较大的晶格失配度和表面能差,利用化学气相沉积(CVD)制备金刚石膜时,金刚石在镜面光滑的Si表面上成核率非常低。而负衬底偏压能够提高金刚石在镜面光滑的Si表面上的成核率,表明金

2024-02-01 1 掩膜

表面微机械微小量程压力传感器采用多晶硅薄膜等有内应力的敏感膜片时,应力往往会使膜片的力学灵敏度大大下降,无法满足微量程测量的要求。波纹膜片可以消除或减小应力来提高灵敏度,但是其波纹结构本身又会

2023-12-26 7 掩膜