氮气流量对金刚石膜生长的影响研究
采用电子辅助化学气相沉积法(EA-CVD)制备掺氮金刚石薄膜,研究了不同氮气流量对金刚石膜的生长速率、表面形貌和膜品质的影响。实验发现,在较低的氮气流量下,金刚石膜的生长速率增加,在较高的氮气流
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a_Si_TFT_LCD黑白视频投影显示.pdf a_Si_TFT_LCD黑白视频投影显示.pdf
摘 要:用RF磁控溅射的方法在最佳沉积条件下在Si(100)基底上沉积了纳米氮化硼薄膜,然后对薄膜在真空度低于5×10-4Pa、温度分别为800℃和1000℃条件下进行了表面热处理,分别用红外光