随着工艺技术到达深亚微米领域
随着工艺技术到达深亚微米领域,互连线的耦合电容、电感对电路的影响越来越大。为 了有效地捕捉互连线的影响,需要进行精确地电路级模拟,但是从版图自动提取出来的互连 线通常是一个大的线性电路。利用spice 模拟器来模拟,通常效率比较低下。针...
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本文主要超薄芯片的背面金属化中的一些问题,阐述了两种主要的背面金属化工艺的建立,并解决了这两个工艺中关键问题,使得工艺获得好的成品率,提高了产品的可靠性,实现了大规模量产。流程(一)介绍了一种通过技术转移在上海先进半导体制造有限公司(ASM...
CMOS工艺中GG2NMOS结构ESD保护电路设计:采用GG2NMOS 结构的ESD 保护电路的工作原理和对其进行的ESD 实验,提出了一种保护电路的栅耦合技术方案,并达到了预期效果. 通过实验可以看
金卤灯以其优异的显色指数和光效配以较长的光源寿命而充任新型高强度气体放电灯的先锋。如果金卤灯在寿命和光电参数得到保证的前提下, 对其实现小型化, 它将在室内照明(使用面广且量大)、汽车