光刻
光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
资源总数
500
光刻 热门资料
查看全部 500 份 →基于AVR的PCB板雕刻机的设计
为了提高PCB板制作的效率,改变传统的化学腐蚀制板工艺,使用机械仿形铣制作电路板的方法,设计了以ATMEGA16单片机为核心部件的PCB板雕刻机控制系统。其中包括PCB雕刻机的基本功能、主要硬件电路设计和软件的实现流程,并给出了相关设计电路...
2024-05-03
10
苛刻环境下基于FPGA的可重构
由于现场可编程门阵列FPGA具有可多次重复编程的特点,它赋予了使用者很大的设计灵活性。同时随着FPGA容量的迅速提高和其内嵌的硬核处理器性能的不断提升,FPGA成为嵌入式系统设计和应用的良好的可编程逻辑平台。但是,常规...
2024-05-07
10
此文件是硬盘自伺服刻录代码
此文件是硬盘自伺服刻录代码,该软件的运行硬件环境是arm966e,开发平台是ADS1.2,源码除了包括用于硬盘碟片刻写的自伺服算法实现部分,还包括ucos实时操作系统在arm966e上的成功移植部分代码.
2015-09-26
58
深刻认识差模电压和共模电压
我们需要的是整个有意义的“输入信号”,要把两个输入端看作“整体”。 就像初中时平面坐标需要用 x,y 两个数表示,而到了高中或大学就只要用一个“数”v,但这个 v 是由 x,y 两个数构成的“向量”…… ...
2024-10-18
3
显影、蚀刻、去膜(DES)工艺指导书.mht
资料->【B】电子技术->【B2】电路设计->【1】电路设计->【_电路设计综合】->PCB相关工艺大全->显影、蚀刻、去膜(DES)工艺指导书.mht
2024-10-27
7