光刻
光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
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**光立方程序 uchar t,i,k,a,s; sbit d1=P0^4; sbit d2=P0^6; sbit q0=P0^0; sbit q1=P0^1; sbit q2=P0^2; sbit q3=P0^3; sbit...
2025-06-04
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