光刻胶

光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶,可在表面...

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阐述了光纤Bragg 光栅传感器的基本工作原理、波长移动解调技术,概述了其近年来在复合材料及混凝土结构状态检测、电力工业以及能源化工等领域的实际应用情况,并分析了其发展前景.关键词:光纤Bra

2024-03-01 3 光刻胶

提出了一种实用可行的控制光纤光栅波长的电磁调谐技术。实验表明,此调谐方法在300 mA 电流下可达到1138 nm 的调谐范围,且具有较好的恢复性。可以应用于可动态配置全光分/ 插复用器OADM 系统

2024-03-24 4 光刻胶

Bragg 光栅解调系统是光栅传感器得以实用化的关键。根据光纤Bragg 光栅传感器的传感机理, 介绍了Bragg 光栅解调系统的工作原理,建立了解调系统模型, 提出了实现Bragg

2024-04-22 6 光刻胶

资料->【B】电子技术->【B6】品质管理->【1】标准规范(国标、行标、安规、规范)->【_其它】->中国出入境检验检疫行业标准->X射线荧光光谱定性筛选法.pdf

2024-11-11 6 光刻胶