光幕代码
适用于工业自动化项目中的红外距离检测场景,基于PIC16F1527单片机实现的光幕代码,支持1米内精准感应,采用普通红外对射管构建,具备良好的抗干扰能力和稳定性能。
光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶,可在表面...
适用于工业自动化项目中的红外距离检测场景,基于PIC16F1527单片机实现的光幕代码,支持1米内精准感应,采用普通红外对射管构建,具备良好的抗干扰能力和稳定性能。