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制作工艺

  • POWERPCB 敷铜的问题,POWERPCB设计制作工艺

    POWERPCB 敷铜的问题,POWERPCB设计制作工艺

    标签: POWERPCB 敷铜 制作工艺

    上传时间: 2014-08-17

    上传用户:mpquest

  • 浅谈多层印制电路板的设计和制作

    从生产制作工艺的角度介绍了多层印制电路板(以下简称多层板)设计时应考虑的主要因素,阐述了外形与布局,层数与厚度,孔与焊盘,线宽与间距的影响因素,设计原则及其计算关系.文中结合生产实践对重

    标签: 多层 印制电路板

    上传时间: 2013-05-24

    上传用户:wdq1111

  • 半导体制作工艺经典视频

    半导体硅工艺经典视频,介绍了整个工艺的全过程,形象,生动,一目了然~

    标签: 半导体 制作工艺 视频

    上传时间: 2013-07-05

    上传用户:rishian

  • 控制柜制作工艺及规程

    制作电器控制柜的规则

    标签: 控制柜 制作工艺 规程

    上传时间: 2013-11-05

    上传用户:kaje

  • 有机电致发光显示器件新型封装技术及材料的研究.rar

    有机发光显示器件(OrganicLight-EmittingDiodes,OLEDs)作为下一代显示器倍受关注,它具有轻、薄、高亮度、快速响应、高清晰度、低电压、高效率和低成本等优点,完全可以媲美CRT、LCD、LED等显示器件。作为全固化显示器件,OLED的最大优越性是能够与塑料晶体管技术相结合实现柔性显示,应用前景非常诱人。OLED如此众多的优点和广阔的商业前景,吸引了全球众多研究机构和企业参与其研发和产业化。然而,OLED也存在一些问题,特别是在发光机理、稳定性和寿命等方面还需要进一步的研究。要达到这些目标,除了器件的材料,结构设计外,封装也十分重要。 本论文的主要工作是利用现有的材料,从绿光OLED器件制作工艺、发光机理,结构和封装入手,首先,探讨了作为阳极的ITO玻璃表面处理工艺和ITO玻璃的光刻工艺。ITO表面的清洁程度严重影响着光刻质量和器件的最终性能;ITO表面经过氧等离子处理后其表面功函数增大,明显提高了器件的发光亮度和发光效率。 其次,针对光刻、曝光工艺技术进行了一系列相关实验,在光刻工艺中,光刻胶的厚度是影响光刻质量的一个重要因素,其厚度在1.2μm左右时,光刻效果理想。研究了OLED器件阴极隔离柱成像过程中的曝光工艺,摸索出了最佳工艺参数。 然后采用以C545T作为绿光掺杂材料制作器件结构为ITO/CuPc(20nm)/NPB(100nm)/Alq3(80nm):C545T(2.1%掺杂比例)/Alq3(70nm)/LiF(0.5nm)/Al(1,00nm)的绿光OLED器件。最后基于以上器件采用了两种封装工艺,实验一中,在封装玻璃的四周涂上UV胶,放入手套箱,在氮气保护气氛下用紫外冷光源照射1min进行一次封装,然后取出OLED片,在ITO玻璃和封装玻璃接口处涂上UV胶,真空下用紫外冷光源照射1min,固化进行二次封装。实验二中,在各功能层蒸镀完成后,又在阴极的外面蒸镀了一层薄膜封装层,然后再按实验一的方法进行封装。薄膜封装层的材料分别为硒(Se)、碲(Te)、锑(Sb)。分别对两种封装工艺器件的电流-电压特性、亮度-电压特性、发光光谱及寿命等特性进行了测试与讨论。通过对比,研究发现增加薄膜封装层器件的寿命比未加薄膜封装层器件寿命都有所延长,其中,Se薄膜封装层的增加将器件的寿命延长了1.4倍,Te薄膜封装层的增加将器件的寿命延长了两倍多,Sb薄膜封装层的增加将器件的寿命延长了1.3倍,研究还发现薄膜封装层基本不影响器件的电流-电压特性、色坐标等光电性能。最后,分别对三种薄膜封装层材料硒(Se)、碲(Te)、锑(Sb)进行了研究。

    标签: 机电 发光 显示器件

    上传时间: 2013-07-11

    上传用户:liuwei6419

  • 基于温度梯度驱动的液滴传输行为研究

    摘要:设计并制作了一种基于温度梯度驱动的液滴传输芯片,以实现对微液滴传输的精确控制.介绍了驱动原理和工艺流程,分析了仿真和实验结果.该芯片利用温度梯度下液滴表面形成的表面张力梯度来传输液滴,采用玻璃作为衬底,Ti为电阻加热器,Au为电极,PECVD氧化硅为介质层,碳氟聚合物为疏水层,实现了器件制作.芯片采用开放式结构,制作工艺简单,操作方便.测试结果表明,驱动功率为0.38W时,去离子水和硅油的传输速率分别达到0.1mm燉s和1mm燉s.关键词:微液滴;温度梯度;表面张力梯度;电阻加热器;开放式结构

    标签: 温度 梯度驱动 传输

    上传时间: 2013-10-28

    上传用户:ukuk

  • 1、 秉承EIP-CDIO的教学理念

    1、 秉承EIP-CDIO的教学理念,以实验设计的方式,通过篮球计时器的设计,运用Protel软件进行绘制原理图和PCB图,增进对电子产品的生产制作过程的了解,提高对电子产品的制作工艺的认识.

    标签: EIP-CDIO

    上传时间: 2016-10-17

    上传用户:彭玖华

  • The Art of Electronics.pdf

    《The Art of Electronics》国外经典电子学教程第三版。豆瓣简介:《电子学(第2版)》是哈佛大学的经典教材,自出版以来已被译成多种语言版本。《电子学(第2版)》通过强调电子电路系统设计者所需的实用方法,即对电路的基本原理、经验准则以及大量实用电路设计技巧的全面总结,侧重探讨了电子学及其电路的设计原理与应用。它不仅涵盖了电子学通常研究的全部知识点,还补充了有关数字电子学中的大量较新应用及设计方面的要点内容。对高频放大器、射频通信调制电路设计、低功耗设计、带宽压缩以及信号的测量与处理等重要电路设计以及电子电路制作工艺设计方面的难点也做了通俗易懂的阐述。《电子学(第2版)》包含丰富的电子电路分析设计实例和大量图表资料,内容全面且阐述透彻,是一本世界范围内公认的电子学电路分析、设计及其应用的优秀教材。《电子学(第2版)》可作为电气、电子、通信、计算机与自动化类等专业本科生的专业基课程教材或参考书。对于从事电子工程、通信及微电子等方面电路设计的工程技术人员,也是一本具有较高参考价值的好书。

    标签: 电子学

    上传时间: 2021-10-30

    上传用户:slq1234567890

  • 全彩OLED屏显示系统的设计

    1引言有要发光二极管(OLED)具有低驱动电压、宽温工作、主动发光、响应速度快和视角宽等优点],其作为全彩显示器件,与LCD相比,具有更简单的工艺和更低的成本。近年,单色和局域色的OLED显示屏已有较多报道~1,并推出了全彩OLED显示屏~9]。本文研制了尺寸为1.9、分辨率为128(×3)×160的全彩OLED屏。在目前报道的同等或以下尺寸的采用无源矩阵(PM)驱动的全彩OLED屏中,该屏的分辨率处于较高水平。2全彩OLED屏2.1全彩技术的实现图1是5种实现全彩OLED显示屏技术的示意图。本文采用(a)所示的平面结构式,每个全彩像素包括红、绿和蓝3个子像素,利用空间混色实现彩色。这种技术的难点是在制作全彩OLED时,需要将红、绿和蓝OLED的发光层(EML)材料分隔开01。屏的最高分辨率不仅受限于机械掩模制作的公差,还受限于在器件制作工艺过程中机械掩模与ITO基板玻璃的对准误差。2.2P-OLED屏的驱动技术OLFD属于电流型器件,其发光亮度与驱动电流成正比,故OLED均采用恒流源驱动。由于OLED自身较高的寄生电容(20~30pF/pixel)和ITO电极引线的电阻(几~几109/口形成的电压降,对恒流源的性能提出了较高的要求,例如可提供高达~30V的电压。为了实现多灰度显示,电流必须可程控。lare公司为了精确控制每个OLED子像素的发光亮度,提出了预充电方案]。根据有无开关和驱动薄膜晶体管的存在,可将矩阵式OLED的驱动可分为P10l和有源矩阵AM112种。PM驱动的显示器件由于制作工艺比AM要简单得多,且成本低廉,故在小尺寸的显示器件上得到了广泛应用。PM驱动电路如图2所示。

    标签: oled

    上传时间: 2022-06-24

    上传用户:yiyewumian

  • 以实用电子技术为主,内容涵盖电子设计与制作,EDA软件应用,电子工艺,电子元器件等方面,同时它还白日做梦部分设计原文件,譬如原程序,软件流程图,电原理图,等方便大家学习利用

    以实用电子技术为主,内容涵盖电子设计与制作,EDA软件应用,电子工艺,电子元器件等方面,同时它还白日做梦部分设计原文件,譬如原程序,软件流程图,电原理图,等方便大家学习利用

    标签: EDA 软件 电子技术 电子工艺

    上传时间: 2014-01-01

    上传用户:z1191176801