表面热处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响 摘 要:用RF磁控溅射的方法在最佳沉积条件下在Si(100)基底上沉积了纳米氮化硼薄膜,然后对薄膜在真空度低于5×10-4Pa、温度分别为800℃和1000℃条件下进行了表面热处理,分别用红外光... 👤 zhaiyawei ⬇️ 1 次下载 表面 热处理