LMS改进

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针对喷刻机定位不稳定问题,提供可直接用于生产环境的改进方案。优化了喷绘与切割的对位逻辑,提升二次开机定位一致性,扩大有效喷刻范围至0.5米以上,适用于工业自动化场景。

2026-03-18 2 LMS改进

改进的k均值算法,可以加速运行时间,详见Using the Triangle Inequality to Accelerate k-Means

2016-05-07 67 LMS改进