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二次铜厚度不均原因及夹膜处理.mht
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2024-08-03
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锰铜精密电阻薄膜的制备工艺研究
采用溅射技术, 对薄膜沉积的相关工艺参数进行了优化, 获得了电阻温度系数TCR≤±10×10- 6ö℃的锰铜薄膜。该项技术为锰铜传感器的薄膜化奠定了基础, 同时也可用于制作锰铜薄膜精密电阻器
2023-12-26
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RF WCDMA 基准比较测试白皮书
概览 通过与传统的仪器进行比较，了解软件定义的PXI RF仪器在速度上的优势。如WCDMA测量结果所示，基于多核处理器并行执行的labview测量算法与传统仪器相比可以实现明显的速度提升。 介绍 你在早晨7:00...
2013-10-09
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