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随着纳米科技的迅速发展，下一代光刻技术在微细加工领域发挥着日益重要的作用。作为复杂半导体加工主要手段之一的电子束曝光系统，需要稳定完善的控制软件来保证其正常运行。本文介绍了电子束曝光控制系统的

2024-04-24 5 适时曝光

分析了自适应光学系统中实时模式复原算法的基本原理, 建立了一种新型的传感器本征模复原算法。与常用的直接斜率法相比, 这种模式复原算法可以有效减小探测噪声对复原计算过程的影响, 提高系统的闭环稳定性和校

2024-04-21 5 适时曝光

传输时间激光距离传感器可用于其它技术无法应用的场合。例如，当目标很近时，计算来自目标反射光的普通光电传感器也能完成大量的精密位置检测任务。但是，当目标距离较远内或目标颜色变化时，普通光电传感器就难以应

2023-11-11 3 适时曝光