📚 计算光刻技术资料

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计算光刻是半导体制造中的关键技术，通过精确模拟光刻过程优化掩模设计，提高芯片性能与良率。广泛应用于先进制程节点的研发与生产中，对于追求极致微缩化、集成度提升的项目至关重要。本页面汇集了11308份精选资料，涵盖算法原理、软件工具及最新研究进展等多方面内容，助力工程师掌握前沿技术，加速创新步伐。立即探索，开启您的专业成长之旅！

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基于ARM系统的表面粗糙度测量仪的设计.pdf

表面粗糙度是机械加工中描述工件表面微观形状重要的参数。在机械零件切削的过程中，刀具或砂轮遗留的刀痕，切屑分离时的塑性变形和机床振动等因素，会使零件的表面形成微小的蜂谷。这些微小峰谷的高低程度和间距状况就叫做表面粗糙度，也称为微观不平度。表面粗糙度的测量是几何测量中的一个重要部分，它对于现代制造业的发...

📅 2013-04-24 👤 KIM66

ARM 测量

基于ARM-Linux的嵌入式Scilab-EMB计算平台设计研究与实现

嵌入式系统在众多工业领域扮演着越来越重要的角色，但是因嵌入式系统的资源受限缘故，导致在嵌入式系统上很难实现复杂计算算法。此外，当前嵌入式系统设计阶段和实现阶段的分离现状，致使嵌入式系统开发耗时且昂贵。为解决这些问题，本书提出了一种低成本、可重复使用且可重构的嵌入式系统设计与实现集成开发环境。为了减少...

📅 2013-05-30 👤 acon

Scilab-EMB ARM-Linux 嵌入式计算