等离子屏
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查看全部 500 份 →氢、氧等离子体处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响
用RF磁控溅射的方法在Si（100）基底上沉积了纳米氮化硼薄膜，然后分别用氢、氧等离子体对薄膜表面进行了处理，用红外光谱、原子力显微镜、光电子能谱以及场发射试验对薄膜进行了研究，结果表明氢等离子
2024-02-29
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