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摘 要：用RF磁控溅射的方法在最佳沉积条件下在Si（100）基底上沉积了纳米氮化硼薄膜，然后对薄膜在真空度低于5×10-4Pa、温度分别为800℃和1000℃条件下进行了表面热处理，分别用红外光
该文档为SMT生产实训 [王玉鹏，舒平生，郝秀云 主编] 2012年版.part3，该资料较大，分为三个部分，全部下载完即可打开：part1：http://dl.21ic.com/download/smt-268171.html ...
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电子设备热设计与热分析
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