掩膜

掩膜技术是半导体制造与光刻工艺中的关键环节,通过精确控制曝光区域实现微纳结构的高精度复制。广泛应用于集成电路、MEMS器件及先进封装等领域,对于提升产品性能和良率至关重要。本页面汇集了143个精选资源,涵盖掩膜设计、材料选择及工艺优化等多方面内容,助力电子工程师深入理解并掌握这一核心技术,加速创新步...

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本文介绍了程控数字交换机上专用芯片MH89625C 的结构、功能以及我们在具体设计中的实际应用, 该芯片最大的优点是它集成了全部BORSCHT 功能。它是一种新型且功能齐全的用户接口,具有集成度高、接

2024-02-11 4 掩膜

应用模式耦合理论计算了外腔式Fabry-Perot(F-P)干涉型光纤传感器的输出光强与F-P腔长的关系。对组成F-P 腔的光纤端面进行了磨平抛光及镀多层电介质膜处理,使光纤端面反射率为70%

2024-03-14 7 掩膜

针对单机版薄膜蒸发器参数化设计系统的诸多局限性,研究了B/S 模式远程参数化设计的基本原理及实现方法,并开发了基于WebClass 的薄膜蒸发器远程参数化设计系统,对实现其它过程设备的远程参数化设计有

2024-03-20 8 掩膜

本文以In2O 3 及其混合物为敏感材料, 采用悬浮栅结构和功函数方法, 研究出可在室温下工作的HSGFET型功函数O 3 传感器, 并给出传感器对O 3 响应曲线以及实验结果的理论分析等.关

2024-05-16 3 掩膜