径向畸变校正

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设计校正器:若系统不稳定,进行滞后-超前校正器的设计,要求校正后相角裕量γ≥40°;剪切频率ωc≥50rad/s。...

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文中简单阐述了红外辐射机理,论述了红外焦平面阵列技术的发展状况。红外成像系统,尤其是红外焦平面阵列,由于探测器材料和制造工艺的原因,各像素点之间的灵敏度存在差别,甚至存在一些缺陷点,各个探测单元特征参...

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资料->【B】电子技术->【B4】电子专题->【0】电源技术->【电感与磁性元件】->功率因数校正用电感材.pdf...

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