干膜曝光
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基于VC＋＋6.0的电子束曝光控制系统
随着纳米科技的迅速发展，下一代光刻技术在微细加工领域发挥着日益重要的作用。作为复杂半导体加工主要手段之一的电子束曝光系统，需要稳定完善的控制软件来保证其正常运行。本文介绍了电子束曝光控制系统的
2024-04-24
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单片机控制X线机适时曝光的设计
目的:设计一套系统,使多台X线机自动运筹,适时曝光,以实现供电电源的共享.方法:根据医院现有条件设计电路,编写算法实现.硬件部分采用51系列单片机,按3台X线机模拟试验,把X线曝光的工作过程模拟简化成1个继电器控制发光二极管的工作过程;软件...
2025-01-15
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干膜使用时破孔-渗镀问题改善办法.mht
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2024-08-26
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