喷管流场

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针对喷刻机定位不稳定问题,提供可直接用于生产环境的改进方案。优化了喷绘与切割的对位逻辑,提升二次开机定位一致性,扩大有效喷刻范围至0.5米以上,适用于工业自动化场景。

2026-03-18 2 喷管流场

基于28335的音乐喷泉的设计,包含硬件与软件,其中控制芯片可用任何带有ad与pwm寄存器的mcu来代替。设计比较灵活,对于入门编程爱好者有很好的参考依据。

2025-12-27 3 喷管流场