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喷刻机的改进设想
针对喷刻机定位不稳定问题，提供可直接用于生产环境的改进方案。优化了喷绘与切割的对位逻辑，提升二次开机定位一致性，扩大有效喷刻范围至0.5米以上，适用于工业自动化场景。
2026-03-18
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