光刻胶

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面...

资源总数
500

光刻胶 全部资料 500 份

资料->【B】电子技术->【B2】电路设计->【1】电路设计->【_电路设计综合】->PCB相关工艺大全->真空蚀刻技术.mht

2024-12-27 8 光刻胶

介绍了橡胶压块机的工作原理和工艺流程,以及用可编程控制器控制橡胶压块生产的控制系统的硬件组成和详细软件。该控制系统在投运3 年以来,可靠性高,性能良好,整个工艺生产能够高效、平稳进行,取得了较高的经济

2024-02-02 8 光刻胶