光刻胶

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面...

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本文提出一种基于亚象素图象处理方法的游标刻度计算机读取算法，该算法使用二次曲线拟合的图像亚像素边缘定位算法，在不影响精度的情况下大大降低了对图象采集装置的要求，可使使游标自动检定设备的成本大幅

2024-02-04 6 光刻胶

光纤光栅具有独特的波长选择性和通用性, 目前在光纤通信系统中的应用极为广泛, 如激光器波长稳定器、拉曼放大器、无源光网中的温度传感器、波分复用中解复用器、光学分插复用器(OADM) 、色散补偿器、ED

2024-03-28 8 光刻胶