光刻胶

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面...

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一个用于三轴数控铣床、雕刻机数控系统的控制程序的源代码，有G代码和M代码功能，供研究数控系统的人员参考

2023-03-21 2 光刻胶

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2024-09-28 6 光刻胶

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2026-01-26 2 光刻胶

对称重传感器制造过程中所需要使用的各种胶粘剂按其作用进行分类,并介绍其使用工艺方法和使用环境及一般性能要求。关键词　称重传感器　胶粘剂　性能

2024-04-07 4 光刻胶