光刻机

光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

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针对喷刻机定位不稳定问题，提供可直接用于生产环境的改进方案。优化了喷绘与切割的对位逻辑，提升二次开机定位一致性，扩大有效喷刻范围至0.5米以上，适用于工业自动化场景。

2026-03-18 2 光刻机

硬件知识CD-R光盘大家族 随着刻录机的日益普及，市场上CD-R光盘的种类也越来越多，容量、颜色、形状、品牌五花八门，消费者往往有一种无所适从的感觉。下面，我们就从不同的角度向大家全面介绍一下CD-R光盘家族的成员，供大家在选购时作参考。

2014-07-27 191 光刻机

介绍了一种新型的刻纹光纤温度传感器模型，并对其测量原理进行看详细研究。试验结果表明该光纤温度传感器温度响应灵敏度1/1odt只与结构参数有关，其数值可达10-3/°C数量级

2024-04-03 5 光刻机