光刻机设计入门
光刻机设计入门，精密仪器设计算法类，对激光器进行控制...
光刻机技术资料
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光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
🔥 光刻机热门资料
还是光刻机的内部算法
还是光刻机的内部算法，激光器的控制,使用积分加滤波...
光刻机双工件台系统上位机软件设计
集成电路、半导体元器件等超精密器件已经被广泛应用在各行各业中，而光刻机作为研制和生产超精密器件的主流设备也变得尤为重要。双工件台系统是光刻机的关键子系统。光刻机双工件台系统的控制系统主要由上位机和下位机两部分组成。下位机指采用VME总线的工控机系统，包含运行若VxWorks系统的PowerPC处理器...
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