光刻机

光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

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光学滤光片通过精密镀膜技术实现对特定波长光线的选择性透过,广泛应用于成像系统中以提升图像质量与性能。工程师在设计光学系统时必备的原理参考。

2026-01-13 1 光刻机