光刻机
光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
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查看全部 500 份 →此文件是硬盘自伺服刻录代码
此文件是硬盘自伺服刻录代码，该软件的运行硬件环境是arm966e，开发平台是ADS1.2，源码除了包括用于硬盘碟片刻写的自伺服算法实现部分，还包括ucos实时操作系统在arm966e上的成功移植部分代码．
2015-09-26
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深刻认识差模电压和共模电压
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2024-10-18
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显影、蚀刻、去膜（DES）工艺指导书.mht
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2024-10-27
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2022-07-28
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