光刻技术

集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。

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基于光电探测器与FPGA的瞬变光辐射探测技术,适用于高精度光信号采集与实时处理场景。方案经过实际工程验证,具备良好的稳定性和响应速度,是光电子系统设计的重要参考。

2026-01-17 3 光刻技术

以光学图像、辐射图像的获取、处理以及光电成像过程所涉及的相关理论和技术为主,涉及光电成像器件的图像变换、信号放大、图像信息的存储、传输、处理和显示的基本原理,光电成像系统的结构与设计,光电成像器件与系统的性能分析与测试,人眼、光源、辐射源和...

2023-02-24 11 光刻技术