光刻技术
集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。
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光刻机双工件台系统上位机软件设计
集成电路、半导体元器件等超精密器件已经被广泛应用在各行各业中，而光刻机作为研制和生产超精密器件的主流设备也变得尤为重要。双工件台系统是光刻机的关键子系统。光刻机双工件台系统的控制系统主要由上位机和下位机两部分组成。下位机指采用VME总线的工...