雕刻

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2024-12-27 8 雕刻

针对喷刻机定位不稳定问题,提供可直接用于生产环境的改进方案。优化了喷绘与切割的对位逻辑,提升二次开机定位一致性,扩大有效喷刻范围至0.5米以上,适用于工业自动化场景。

2026-03-18 2 雕刻