薄膜光学

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就镍薄膜热电阻研制过程中的选材、工艺、稳定性等问题进行了探讨, 实验结果表明: 可以选用国产0 号镍, 采用S2枪磁控溅射技术制备镍薄膜热电阻; 合适的热处理工艺是保证电阻温度系数A值及其一致性的关键

2024-04-22 5 薄膜光学

采用溅射技术, 对薄膜沉积的相关工艺参数进行了优化, 获得了电阻温度系数TCR≤±10×10- 6ö℃的锰铜薄膜。该项技术为锰铜传感器的薄膜化奠定了基础, 同时也可用于制作锰铜薄膜精密电阻器

2023-12-26 5 薄膜光学

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2024-11-16 2 薄膜光学