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离子注入技术是半导体制造中的关键工艺之一，通过精确控制能量和剂量将杂质原子引入硅片，以改变其电学特性。广泛应用于集成电路、功率器件及MEMS等领域，对于提升器件性能至关重要。本页面汇集了300份精选资源，涵盖理论基础、实验操作与最新研究进展，助力电子工程师深入理解并掌握这一前沿技术，加速创新步伐。立即访问，开启您的专业成长之旅！

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