期刊论文：基于自适应曝光的CMOS图像传感器的设计与实现
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曝光技术资料
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曝光技术在电子制造与光刻工艺中扮演着至关重要的角色，通过精确控制光线或电子束照射材料表面，实现微米乃至纳米级别的图案转移。广泛应用于半导体芯片、LCD显示屏及PCB板生产等领域。掌握曝光原理不仅能够帮助工程师优化现有生产工艺流程，提高产品良率，还能激发创新思维，在新兴显示技术和先进封装方案探索上开辟新路径。本页面汇集了28份精选资料，涵盖基础理论到前沿应用案例分析，助力您快速成长为行业专家。
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提出了杨氏条纹观察屏处放置衍射晕负片消除衍射晕影响的新方法。用该方法对实际双曝光散斑底片 进行了处理。结果表明.对解决由于衍射晕强度变化引起的条纹极值漂移和条纹对比度下降间题行之有效。
提出了杨氏条纹观察屏处放置衍射晕负片消除衍射晕影响的新方法。用该方法对实际双曝光散斑底片 进行了处理。结果表明.对解决由于衍射晕强度变化引起的条纹极值漂移和条纹对比度下降间题行之有效。...
摘 要:曝光瞬间造成图像模糊的运动通常作为直线运动近似处理 ,若能找出模糊图像的运动模糊方向 ,并将之旋转到水平轴 ,则二维问题可简化为一维来处理 ,大大简化由模糊图像估计出运动模糊点扩散函数以及图像
摘 要:曝光瞬间造成图像模糊的运动通常作为直线运动近似处理 ,若能找出模糊图像的运动模糊方向 ,并将之旋转到水平轴 ,则二维问题可简化为一维来处理 ,大大简化由模糊图像估计出运动模糊点扩散函数以及图像恢复的过程 ,并为图像恢复的并行计算创造有利条件。由于运动模糊降低了运动方向上图像的高频成 分 ,...
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