📚 曝光技术资料

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曝光技术在电子制造与光刻工艺中扮演着至关重要的角色,通过精确控制光线或电子束照射材料表面,实现微米乃至纳米级别的图案转移。广泛应用于半导体芯片、LCD显示屏及PCB板生产等领域。掌握曝光原理不仅能够帮助工程师优化现有生产工艺流程,提高产品良率,还能激发创新思维,在新兴显示技术和先进封装方案探索上开辟新路径。本页面汇集了28份精选资料,涵盖基础理论到前沿应用案例分析,助力您快速成长为行业专家。

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目的:设计一套系统,使多台X线机自动运筹,适时曝光,以实现供电电源的共享.方法:根据医院现有条件设计电路,编写算法实现.硬件部分采用51系列单片机,按3台X线机模拟试验,把X线曝光的工作过程模拟简化成1个继电器控制发光二极管的工作过程;软件部分主要应用了中断技术.结果:能够很好地控制多台X线机的曝光...

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