📚 掩膜技术资料

📦 资源总数：258

💻 源代码：142

掩膜技术是半导体制造与光刻工艺中的关键环节，通过精确控制曝光区域实现微纳结构的高精度复制。广泛应用于集成电路、MEMS器件及先进封装等领域，对于提升产品性能和良率至关重要。本页面汇集了143个精选资源，涵盖掩膜设计、材料选择及工艺优化等多方面内容，助力电子工程师深入理解并掌握这一核心技术，加速创新步伐。

🔥 掩膜热门资料

查看全部258个资源 »

小波变换表征多层膜氧化层、界面层和膜厚漂移

·摘　要:用小波变换的方法分析了纳米多层膜的X射线掠入射反射率测试曲线．从小波变换的自相关函数峰位和峰强度信息中得到了常规曲线拟合方法难以表征的含有氧化层、界面层或厚度漂移的多层膜结构，利用其作为多层膜的初始结构再进行常规的曲线拟合，可实现多层膜结构精确表征的目的．研究成功地鉴别出钒单层膜的表面存在...

⬇️ 10 次下载