扩散炉

扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一,用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。

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设炉温变化范围为0-100&ordm C,相应电压为0-5V。要求:每隔30秒钟采集一次温度数据,并将采集的数据送七段段码显示(十进制)。采集到的炉温在40&ordm C-60&ordm C是正常,其他为不正常。不正常时要求通过蜂鸣器报警,...

2014-01-01 189 扩散炉