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采用溅射技术, 对薄膜沉积的相关工艺参数进行了优化, 获得了电阻温度系数TCR≤±10×10- 6ö℃的锰铜薄膜。该项技术为锰铜传感器的薄膜化奠定了基础, 同时也可用于制作锰铜薄膜精密电阻器

2023-12-26 5 布铜

特别好的资料,我找了好久才找到,非常希望朋友们喜欢的.

2013-04-24 101 布铜

有发布，查看和留言的功能，用jsp+servlet+bean所写的，很经典但有漏洞

2014-01-17 122 布铜

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2026-01-30 1 布铜

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2026-02-21 1 布铜