工艺控制
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查看全部 500 份 →锰铜精密电阻薄膜的制备工艺研究
采用溅射技术, 对薄膜沉积的相关工艺参数进行了优化, 获得了电阻温度系数TCR≤±10×10- 6ö℃的锰铜薄膜。该项技术为锰铜传感器的薄膜化奠定了基础, 同时也可用于制作锰铜薄膜精密电阻器
2023-12-26
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（10）检测、控制与仪器仪表卷 第10篇 仪器仪表特种工艺.rar
资料->【F】机械结构->【F1】机械丛书->机械工程手册(第二版) (共10卷)[pdg]->（10）检测、控制与仪器仪表卷 第10篇 仪器仪表特种工艺.rar
2013-07-08
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（10）检测、控制与仪器仪表卷 第10篇 仪器仪表特种工艺.rar
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2023-06-03
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