制作工艺

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采用溅射技术, 对薄膜沉积的相关工艺参数进行了优化, 获得了电阻温度系数TCR≤±10×10- 6ö℃的锰铜薄膜。该项技术为锰铜传感器的薄膜化奠定了基础, 同时也可用于制作锰铜薄膜精密电阻器

2023-12-26 5 制作工艺

本焊接施工工艺标准仅使用于奥氏体,马氏体,铁氏体组织的不锈钢焊接工程。其焊接方法有手工电弧焊,手工钨极氩弧焊,气焊三种方法。第一节 设备及材料要求第 4.1.1 条所使用的材料,

2013-04-24 60 制作工艺