光束特性
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光束特性 热门资料
查看全部 500 份 →基于VC＋＋6.0的电子束曝光控制系统
随着纳米科技的迅速发展，下一代光刻技术在微细加工领域发挥着日益重要的作用。作为复杂半导体加工主要手段之一的电子束曝光系统，需要稳定完善的控制软件来保证其正常运行。本文介绍了电子束曝光控制系统的
2024-04-24
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基于线性约束LSCMA在TS101上的实现
本文探讨了ADSP TigerSHARC101S 的在基于线性约束最小二乘恒模算法(LSCMA)中的应用。首先介绍了最小二乘恒模算法基本原理和权值迭代公式， 并对其进行线性约束然后介绍了ADSPTig
2024-04-03
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一种基于约束特征的网格编辑技术
为了改进自由变形技术在用户交互和编辑灵活性的不足，提出了一种直观的交互式网格模型编辑技术，该技术可以根据不同的约束变形特征、封闭的变形边界以及编辑参考曲线来完成网格模型的编辑，并且为了模型的平滑和自然
2024-02-09
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