光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面...
资料->【B】电子技术->【B2】电路设计->【1】电路设计->【_电路设计综合】->PCB相关工艺大全->干膜光致抗蚀剂的结构、感光胶层的主要成分及作用.mht
集成电路、半导体元器件等超精密器件已经被广泛应用在各行各业中，而光刻机作为研制和生产超精密器件的主流设备也变得尤为重要。双工件台系统是光刻机的关键子系统。光刻机双工件台系统的控制系统主要由上位机和下位机两部分组成。下位机指采用VME总线的工...
本文介绍了有着蚀刻结构的光纤传感器在应变测量以及薄结构振动测量中的应用和检测机理. 并且在非对称蚀刻结构的光纤曲率传感器的基础上提出了分布式光纤模态曲率传感器研究.关键词:蚀刻结构(敏感区)
自己做的CD光盘刻录控件,基于Nero SDK实现. 用于刻录文件或文件夹到CD光盘. 源程序晚点儿上载.
利用表面增强拉曼(SERS) 技术对光纤表面进行修饰,构造了表面增强光纤拉曼光谱传感器。选取了几个有代表性的分子作为检测样品,得到了低浓度样品的SERS 光谱。结果表明,可以将制备SERS活性基底的方